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MGH-Optik

Inhaber: Mahdi Ghiaei

Unsere Leistungen im Bereich der mikrotechnischen Glas- und Linsenbearbeitung:

  • Bedampfung
  • Beschichtung
  • Belichtung
  • Strukturierung nach Kundenwunsch bis 0,5 µm

Glasbearbeitung:    Bearbeitung von Substraten (z.B. opitsche Gläser) bis zu einem

Durchmesser von 2 bis 650 mm.

Beschichten/

Bedampfen:             Herstellung von unterschiedlichen optischen Schichten auf den

verschiedensten Substraten. Beispiel für diese Schichten:

Chrom, Aluminium, Gold, Siliciumdioxid (SiO2), Kupfer und

einiges mehr.

Belichtung/

Strukturierung:        Aus dem Zusammen wirken von Glasbearbeitung, Photo-                                                  lithographie und Bedampfung entstehen so zum Beispiel                                                  Chrommasken, Al-Rasterspiegel als Lichtteiler, Strichplatten,                                           Zählkammern und vieles mehr.

 

Die Helmut Heller GmbH wurde 1976 gegründet. Zunächst in Rüdesheim am Rhein ansässig, wurde bald eine Erweiterung notwendig, sodass im Jahr 1986 größere Räume im eigenen Haus in Wiesbaden-Erbenheim bezog. Am 01.06.2016 übernahm der langjährige Leiter der Produktion, Herr Mahdi Ghiaei, das Unternehmen. Hier wird auf Kundenwunsch alles gefertigt, was in die Kategorie Glasbearbeitung, Photolithographie und Bedampfung paßt.

Die Kombination dieser drei Technologien hat für den Kunden den großen Vorteil, daß er, angefangen von der Substratkonfektionierung bis zum fertigen optischen Bauteil, praktisch alles aus einer Hand erhält. Es können Glassubstrate bis zu 650 x 650 mm mechanisch und photolithographisch bearbeitet werden. Für Substrate bis zu einer Größe von 6´´ steht für die Konfektionierung eine hochgenaue Diamantsäge zur Verfügung. Daneben sind auch Bohrungen mit Ultraschall- bzw. Diamantbohrer möglich. Besonders stolz ist das Unternehmen auf hervorragende Geometrie und Maßhaltigkeit, die man beim Ultraschallbohren durch ein rotierendes Werkzeug erhält.

Die Gravur  von Glassubstraten ist sowohl durch naßchemisches Ätzen auch durch  Plasmaätzen nach der Beschichtung mit einer Haftmaske möglich. Das Plasmaätzen garantiert steile Flanken. Es können Substrate bis 650 mm Ǿ  bearbeitet werden. Glanzstück ist die Gravur mittels Excimerlaser  bei einer Wellenlänge von 193 nm. Hierbei wird keine Haftmaske benötigt, Substratverunreinigungen oder Beschädigungen werden vermieden Auch diese Technologie liefert eine hervorragende Kantenqualität bei einem Materialabtrag von ca. 2-4 µm je nach Strukturbreite.

Für die Photolithographie stehen ein rechnergestütztes Maskenentwurfssystem, gekoppelt mit einem Patterngenerator, eine Durchlaufanlage zur Beschichtung mit Photolack verschiedene Waferstepper und Anlagen für beidseitige Belichtung zur Verfügung. Diese Ausrüstung sichert hohe Flexibilität und hohe Qualität bei der Bearbeitung von Kundenaufträgen. Durch den Einsatz eines Excimerlasers mit einer Wellenlänge von  248 nm für die Belichtung soll demnächst eine Strukturauflösung von <0,5 µm erreicht werden.

Die Herstellung der unterschiedlichsten optischen Schichten auf den verschiedensten Substraten erfolgt in mikroprozessorgesteuerten Bedampfungsanlagen. Diese sind zum Teil mit Turbomolekularpumpen bzw. Cryopumpen ausgestattet, so daß auch diffizile Schichten, die ein treibmittelfreies Vakuum erfordern, realisiert werden können. Als Beschichtungsmaterialien kommen, Metalle, Dielektrika und spezielle Materialien für niedrigreflektierende Schichten zum Einsatz.

Aus dem Zusammenwirken von Glasbearbeitung, Photolithographie und Bedampfung entstehen so zum Beispiel Chrommasken, Al-Rasterspiegel als Lichtteiler, Strichplatten, Impuls- sowie Inkrementalsscheiben, Zählkammern und vieles mehr.